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中国科学院上海技术物理研究所;
辐射; 衬底温度; 分子束外延; HgCdTe;
机译:分子束外延生长汞镉的光致发光:HGCDTE / GAAS和HGCDTE / SI技术的比较
机译:基于分子束外延生长的基于HGCDTE的表面泄漏限量NBN结构动态阻力的实验研究
机译:分子束外延生长HgCdTe薄膜缺陷结构的电学和光学研究
机译:对分子束外延HGCDTE基焦平面阵列和相机的高能量中子辐射效应
机译:分子束外延中衬底温度的非线性建模和控制设计。
机译:分子束外延生长的分子束外延和GaAsBi / GaAs量子阱的性质:热退火的影响
机译:GaAs(001)上通过分子束外延生长的ZnTe外延层的衬底温度依赖性
机译:mBE(分子束外延)在低衬底温度和生长速率下生长的Gaas薄膜的研究
机译:从分子半导体化合物A III BV的束中确定外延过程中衬底温度的方法
机译:分子束外延(MBE)HgCdTe生长的基质
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