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稳恒强磁场对Fe-Si复合电沉积行为的影响

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采用软磁性Fe-Si合金颗粒以及弱抗磁性Si颗粒在稳恒磁场下采用复合电沉积法制备Fe-Si镀层,考察了磁感应强度(B)、磁场与电流(J)方向以及电极排布方式对不同颗粒在电镀过程的迁移行为的影响.研究结果表明,当采用水平电极平行磁场电镀时(B||J),由于微观MHD效应以及梯度磁场力的作用,Fe-Si颗粒在镀层表面迁移聚集逐渐形成"圆丘状"突出物,而且随着Fe-Si颗粒自身硅含量的升高,"圆丘状"突出物半径显著降低;同时,由于微观MHD效应造成的溶液扰动,影响了颗粒进入镀层,导致镀层硅含量随着磁场强度的升高而下降.采用垂直磁场竖直电极电镀时(B⊥J),在宏观MHD效应以及梯度磁场力的作用下Fe-Si颗粒在镀层表面出现沿着MHD流动方向排列的"条纹状"突出物,而这一现象对纯Si颗粒并不明显.

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来源
《第二届全国电磁冶金与强磁场材料科学会议》|2014年|263-272|共10页
会议地点包头
作者
ZHONG Yun-bo; 钟云波; LONG Qiong; 龙琼; ZHOU Jun-feng; 周俊峰; REN Wei-li; 任维丽; LEI Zuo-sheng; 雷作胜; REN Zhong-ming; 任忠鸣;
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作者单位

中国金属学会电磁冶金与强磁场材料科学分会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类金属学（物理冶金）;金属复层保护;
关键词
铁硅合金颗粒; 复合电沉积行为; 稳恒强磁场; 硅含量; 镀层形貌;

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