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金晨宁; 余丙军; 肖晨; 陈磊; 钱林茂;
中国机械工程学会;
单晶硅; 纳米凸结构; 摩擦诱导选择性刻蚀; 表面粗糙度;
机译:摩擦诱导选择性刻蚀在硅上进行温度相关的纳米加工
机译:利用强表面放电在单晶硅太阳能电池上选择性刻蚀氮化硅膜
机译:碱性溶液诱导刻蚀对单晶硅光学和少数载流子寿命特征的影响
机译:单晶硅:化学刻蚀的表面演变规律以及纳米喷射抛光对损伤前体的影响
机译:通过新型衬底表面敏化和活化技术,表面活性剂诱导的化学镀层由表面活性剂诱导化学凝固和活化技术进行PD-AG H2选择性膜的性能
机译:通过摩擦诱导的Si3N4掩模选择性刻蚀在单晶硅上进行纳米加工
机译:反应离子刻蚀和溅射刻蚀诱导Gaas表面损伤
机译:利用结构选择性外延生长技术和选择性硅刻蚀技术形成单晶硅图形的方法
机译:结构选择性表位生长技术及利用选择性硅刻蚀技术形成单晶硅图形的方法
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