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大面积镀膜:大功率脉冲解决方案及商机

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磁控溅射主要用于针对越来越多的各种创新性应用在基材上大面积沉积多层结构薄膜.脉冲电源用于介电和半导体化合物的反应沉积,从而实现直流电源(DC)无法完成的镀膜工艺.通过双靶磁控溅射(DMS)沉积复合导电材料以及介电材料是玻璃生产行业的关键技术.DSM用于建筑玻璃、汽车玻璃和薄膜光伏太阳能电池上的大面积镀膜.对靶上沉积的绝缘膜定期放电可避免靶电弧.反转阳极电压功能实现长时间生产.脉冲DMS电源具备的多种功率输出形式为工艺开发人员提供新的解决方案,能够沉积新的化合物和优化现有流程来实现高性能和降低总成本.

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来源
《2016年中国玻璃深加工研讨会（GPD2016）》||62-6466-68|共6页
会议地点上海
作者
David J.Christie; David J.Christie;
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作者单位

中国硅酸盐学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类
关键词
玻璃加工; 大面积镀膜; 双靶磁控溅射; 多种功率输出;

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