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王立东; 王中健; 程新红; 万里;
中国半导体行业协会;
中国电子科技集团公司第十三研究所;
高电子迁移率晶体管; 氮化镓; 栅场板; 性能表征;
机译:边缘场对具有高栅介质的p沟道隧道场效应晶体管器件性能的影响
机译:具有漏极场板(TGDFP)HEMT的常关GaN基T栅设计,用于功率和RF应用
机译:具有栅金属缩进的p-GaN HEMT的栅极可靠性
机译:栅漏区中具有p-GaN层的AIGaN / GaN HEMT中的电流塌陷降低
机译:系统评估金属栅电极的有效功函数及其对CMOS器件性能的影响。
机译:极化库仑场散射对70nm栅长AlGaN / GaN HEMT的电性能的影响
机译:具有铟 - 氧化铟锡栅电极的P-GaN / AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管的示范
机译:具有重掺杂n + -GaN欧姆接触2DEG的自对准栅GaN-HEmT。
机译:使用MBE再生P-GaN单栅结构GaN-JFET设备的方法
机译:例如的场发射器阵列X射线管具有在栅和衬底层上施加发射电压时发射电子的发射器,其中栅层具有电阻层,该电阻层具有电阻以定位电弧形成的影响
机译:亚毫米级导电栅板具有sabumirimetoruapachiya的掩模的制造方法,亚微米级导电栅板具有sabumirimetoruapachiya的掩模和亚毫米级导电栅板
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