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激光直接写入系统线宽分析

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在激光直接写入系统中,由于抗蚀剂内的曝光量分布和光强分布之间有差别。本文给出了用激光直接写入技术制作二元光学元件时,抗蚀剂内曝光量的计算公式。文章分析了抗蚀剂内曝光区域各点的曝光量分布,它们在显影后所对应的侧壁角和线条宽度以及写入激光束运动速度变化对线条侧壁角和宽度的影响。

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来源
《中国兵工学会第十一届测试技术学术年会》|2002年|1383-1388|共6页
会议地点成都
作者
谢永军; 卢振武; 李凤友; 马月英; 丛小杰; 翁志成;
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作者单位

中国兵工学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类光刻、掩膜;
关键词
激光直写; 抗蚀剂; 二元光学; 线宽分析;

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