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激光诱导化学气相沉积(LCVD)制膜技术

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本文介绍了用LCVD的方法制备金属Cr薄膜,用扫描电子显微镜法(SEM),X射线光电子谱,X射线衍射方法对所沉积薄膜进行了表征,并对现阶段LCVD技术的难关进行了总结.针对目前存在的技术问题和发展方向主要归结为：研究LCVD现阶段出现的主要问题是激光再通光窗口处沉积薄膜，无法对其适当加热，严重影响了薄膜的纯净度与厚度。研究分析LCVD过程中各主要工艺参数诸如激光功率、基体预处理和反应气压等对所制薄膜质量的影响，促使LCVD技术理论化，成熟化等。

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来源
《2011中国功能材料科技与产业高层论坛》|2011年|974-977|共4页
会议地点重庆
作者
Li LIU; 刘丽; Jianjun WEI; 韦建军; Weidong WU; 吴卫东; Xuemin WANG; 王雪敏; Liping PENG; 彭丽萍;
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作者单位

中国仪器仪表学会仪表功能材料学会;

重庆市科协;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类特种结构材料;
关键词
金属薄膜; 铬金属; 化学气相沉积法; 性能表征;

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