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用表面滴涂法制备基于MoS2纳米片的混合基质膜用于CO2/N2分离

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二硫化钼(MoS2)是一种类石墨烯的二维无机纳米片层材料,再此首次将MoS2作为无机纳米填料制备用于分离CO2和N2的混合基质膜.选用Pebax1657为聚合物材料,以聚砜为基膜材料,PDMS层作为隔离层防止孔渗现象,以7/3的乙醇/水为溶剂.涂层采用简单的滴涂蒸发的方法制备.所制备MoS2/Pebax膜的CO2渗透通量和气体选择性都已经超过了空白的Pebax膜.在MoS2含量为0.15wt％时,CO2渗透系数达到64Barrer,CO2/N2选择性达到93,已超过Robeson上限线.分离机制基于典型的溶解扩散机制.同时,MoS2对CO2有更高的吸附能,进一步提高了气体的分离性能.

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来源
《海峡两岸第五届膜科学技术高级研讨会暨“青山杯”研究生论坛》|2016年|109-113|共5页
会议地点江西上饶
作者
申亦佳; 张亚涛;
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作者单位

中国膜工业协会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类 TQ326.55:TQ320.6;
关键词
混合基质膜; 聚砜; 二硫化钼纳米片; 表面滴涂法; 分离性能;

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