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基于蒙特卡罗方法的上海超强超短激光装置辐射屏蔽计算的比较分析

摘要

在建的上海超强超短激光装置(Shanghai Superintense Ultrafast Laser Facility,SULF)是利用峰值功率可达10拍瓦的激光系统驱动产生高亮度超短脉冲高能光子与粒子束的综合研究实验平台.本文针对上海超强超短激光装置,利用了蒙特卡罗模拟计算软件FLUKA对基于激光驱动所产生的电子、光子和质子束分别进行模拟,计算了该装置的主体屏蔽,并利用蒙特卡罗模拟计算软件GEANT4进行了屏蔽计算的验证.比较分析的结果表明两个不同的蒙特卡罗模拟计算软件获得的计算结果符合较好.根据模拟计算的结果,对SULF主体屏蔽墙的几何结构进行设计和优化,使得主体屏蔽外的辐射剂量满足剂量管理目标值.

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