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环抛加工中元件面形演变仿真及实验研究

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由preston方程,元件表面某点的材料去除率可以表示为:MRR=dh/dt=kpv(1)则某点的材料去除量h可以表示为:h=k0∑ip(ti)s(ti)(2)在加工参数恒定的情况下,可以认为k0近似为常数.对材料去除过程进行时间离散,对每个时间微元下的界面应力分布进行数值仿真,并基于单点运动方程求解单点运动距离.元件面形演变仿真的主要研究工件-抛光盘接触界面的应力场和速度场分布,进而得到元件的面形演变.

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来源
《第十九届中国磨粒技术学术会议》|2017年|196-197|共2页
会议地点哈尔滨
作者
张飞虎; 任乐乐; 廖德锋;
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作者单位

中国机械工程学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类金属电抛光及化学抛光;
关键词
环形抛光; 面形演变; 应力场; 速度场;

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