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TiN镀层对射频器件表面二次电子倍增的抑制作用

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摘要

射频器件中的二次电子倍增效应通常会产生许多不良影响,使用TiN镀层来抑制射频器件中的二次电子倍增已经有许多成功的应用.本文概述了TiN镀层的二次电子发射性能及其对真空系统释气率的影响,总结了TiN镀层在陶瓷窗、超导腔、直线加速器等射频器件中的应用,得出了相关结论.

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来源
《2012毫米波亚毫米波会议》|2012年|282-287|共6页
会议地点南京
作者
JIAO Xiao-jing; 焦晓静; SU Dang-shuai; 苏党帅; WANG Qian; 王茜;
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作者单位

中国电子学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类光电倍增管;
关键词
射频器件; 倍增效应; 氮化钛; 抑制作用;

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