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灯丝间距对CVD金刚石厚膜生长的影响

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本文采用热丝化学气相沉积方法制备CVD金刚石厚膜,通过灯丝间距缩短为4mm，同时增加围挡，使得CVD金刚石厚膜的生长速度可达到7.5μm/h，热导率达到1028W/(m·K)，CVD金刚石膜结构致密，无孔洞，甚至透红光。其主要原因是灯丝间距缩短和增加围挡，增加了灯丝阵列的活化能力，产生更多的含碳基团和原子氢，促进金刚石生长，加速sp2结构碳的刻蚀。

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来源
《第十九届中国超硬材料技术发展论坛》|2015年|92-95|共4页
会议地点郑州
作者
Zhao zhiyan; 赵志岩; Zhou Mingyu; 周明于; Hao Chao; 郝超;
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作者单位

中国机床工具工业协会超硬材料分会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类人造超硬度材料的生产;
关键词
金刚石厚膜; 热丝化学气相沉积法; 灯丝间距; 围挡; 生长速度;

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