首页> 中文会议>第十次全国热处理大会 >脉冲闭合场非平衡磁控溅射(P-CFUBMS)与直流闭合场非平衡磁控溅射(dc-CFUBMS)对CrNx镀层沉积效果差异比较

脉冲闭合场非平衡磁控溅射(P-CFUBMS)与直流闭合场非平衡磁控溅射(dc-CFUBMS)对CrNx镀层沉积效果差异比较

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

采用脉冲闭合场非平衡磁控溅射(P-CFUBMS)与直流闭合场非平衡磁控溅射(dc-CFUBMS)两种方法分别沉积CrNx镀层,研究了两种不同复合电磁场环境中制备的CrNx镀层厚度沿靶基距方向分布均匀性及微观结构的差异.结果表明:rn P-CFUBMS环境中,由于靶材原子离化率的显著提高使所制备的CrNx镀层厚度沿靶基距方向分布的均匀性明显优异于dc-CFUBMS,且获得的CrNx镀层更致密.在靶基距为60mm处,dc-CFUBMS制备的CrNx镀层沿CrN(111)晶面择优生长较为明显,而P-CFUBMS制备的CrNx镀层则有较明显的沿CrN(311)晶面择优生长趋势.P-CFUBMS条件下基片随靶基距增大的降温幅度比dc-CFUBMS平缓.

著录项

来源
《第十次全国热处理大会》|2011年|651-656|共6页
会议地点天津
作者
曹政; 蒋百灵; 宁富平; 张潜;
展开▼
作者单位

中国机械工程学会;

展开▼
会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类真空镀与气相镀法;
关键词
P-CFUBMS; dc-CFUBMS; CrNx镀层; 沉积效果; 复合电磁场环境; 微观结构;

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. 闭合场非平衡磁控溅射离子镀复合金属镀层在PCB微钻中的应用 [J] . 种艳琳 ,李小泉 . 印制电路信息 . 2006,第004期
2. 闭合场非平衡磁控溅射离子CrAlTiN镀层在PCB用微钻中的应用 [J] . 种艳琳 ,蒋白灵 ,白力静 . 表面技术 . 2006,第2期
3. 闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术概述 [J] . 巩中宣 . 内燃机与配件 . 2013,第001期
4. 闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术概述 [J] . 巩中宣 . 内燃机与配件 . 2013,第001期
5. 闭合场非平衡磁控溅射镀Cr-C层的耐蚀性研究 [J] . 杨蓉 ,白力静 ,冯联友 . 腐蚀科学与防护技术 . 2008,第6期
6. 闭合场非平衡磁控溅射离子镀复合金属镀层在PCB用微钻中的应用 [C] . 种艳琳 ,李小泉 . 2005秋季国际PCB技术/信息论坛 . 2005
7. 闭合场非平衡磁控溅射沉积的CrAlN薄膜组织结构和性能研究 [A] . 余春燕 . 2009

获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

客服微信
服务号