机译:可以切换两种磁通分布模式(平衡模式/非平衡模式)的磁控溅射设备,使用该设备和双模式磁控溅射设备形成无机成膜材料的膜的成膜方法,以及使用该装置在低温下形成膜的无机成膜材料的成膜方法
公开/公告号DE112005001599T5
专利类型
公开/公告日2007-05-31
原文格式PDF
申请/专利号DE112005001599T5
发明设计人
申请日2005-07-07
分类号C23C14/35;C23C14/08;B01J37/02;
国家 DE
入库时间 2022-08-21 20:29:30