首页> 外文会议>2010 27th International Conference on Microelectronics Proceedings >Degradation of p-channel power VDMOSFETs under pulsed NBT stress
【24h】

Degradation of p-channel power VDMOSFETs under pulsed NBT stress

机译:脉冲NBT应力下p沟道功率VDMOSFET的性能下降

获取原文
获取原文并翻译 | 示例

摘要

Results of pulsed NBT stress-induced threshold voltage instabilities in p-channel power VDMOSFETs are presented and compared with static NBTI results. Optimal frequency and duty cycle ranges for application of investigated devices are proposed as well.
机译:给出了p沟道功率VDMOSFET中脉冲NBT应力引起的阈值电压不稳定性的结果,并将其与静态NBTI结果进行了比较。还提出了用于研究设备的最佳频率和占空比范围。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号