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首页> 外文会议>2012 IEEE Student Conference on Research and Development >Initial strategy for design and fabrication of microgap electrodes
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Initial strategy for design and fabrication of microgap electrodes

机译：设计和制造微间隙电极的初步策略

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With the emergence of nanotechnology, the desire for more shrinkage of electronic devices is gaining a wide spread acceptance. A compact nano laboratory on single chip is one of the devices employed under this scenario, thus, for the transition of microgap electrode to be successful there is a need for the pattern to be precisely transferred to sample wafers during fabrication. The article demonstrates the initial strategy for fabrication of microgap electrodes using conventional photolithography technique coupled with wet etching process. The study demonstrates the excellent strategy for fabrication of microgap electrodes by using polysilicon sample wafer and positive photoresist.
机译：随着纳米技术的出现，对电子设备的进一步缩小的需求正被广泛接受。在这种情况下采用的紧凑的单芯片纳米实验室就是这种情况下使用的设备之一，因此，为了成功实现微间隙电极的转换，需要在制造过程中将图案精确地转移到样品晶圆上。本文演示了使用常规光刻技术和湿法刻蚀工艺制造微间隙电极的初始策略。该研究表明了使用多晶硅样品晶片和正性光刻胶制造微间隙电极的绝佳策略。

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