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Initial strategy for design and fabrication of microgap electrodes

机译：微涂电极设计和制造的初始策略

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With the emergence of nanotechnology, the desire for more shrinkage of electronic devices is gaining a wide spread acceptance. A compact nano laboratory on single chip is one of the devices employed under this scenario, thus, for the transition of microgap electrode to be successful there is a need for the pattern to be precisely transferred to sample wafers during fabrication. The article demonstrates the initial strategy for fabrication of microgap electrodes using conventional photolithography technique coupled with wet etching process. The study demonstrates the excellent strategy for fabrication of microgap electrodes by using polysilicon sample wafer and positive photoresist.
机译：随着纳米技术的出现，对电子设备的更多收缩的欲望正在获得广泛的差异验收。 单个芯片上的紧凑型纳米实验室是在这种情况下采用的装置之一，因此，对于待成功的微量涂层电极的转变成功，需要将图案精确地转移到制造过程中的样品晶片中。 本文通过与湿法蚀刻工艺耦合的常规光刻技术来说明初始策略。 该研究通过使用多晶硅样品晶片和正光致抗蚀剂，表明了用于制造微胶质电极的优异策略。

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