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【24h】

Rehabilitation of wet etching for the low-cost manufacturing of highly selective subwavelength gratings of high efficiency

机译:修复湿法蚀刻,以低成本制造高效率的高选择性亚波长光栅

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摘要

Beside giving rise to high optical contrast effects and high-selectivity filtering, resonant DOE and grating elements lend themselves, and for the same reason related to the existence of resonances, to a manufacturing technology resorting to very low cost plain old wet etching processes even for submicron features.
机译:除了产生高的光学对比效果和高选择性滤光之外,共振的DOE和光栅元件也因与共振的存在相关的原因而适用于一种制造技术,该制造技术即使在制造过程中也要采用非常低成本的普通旧式湿法蚀刻工艺。亚微米功能。

著录项

  • 来源
  • 会议地点 Munich(DE);Munich(DE)
  • 作者单位

    Universityof Lyon, Lab. H. Curien UMR CNRS 5516, Saint-Etienne, 42000, France,On leave from ISSP Bulgarian Academy of Sciences, Sofia, 1784, Bulgaria;

    Universityof Lyon, Lab. H. Curien UMR CNRS 5516, Saint-Etienne, 42000, France;

    Universityof Lyon, Lab. H. Curien UMR CNRS 5516, Saint-Etienne, 42000, France;

  • 会议组织
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 光学仪器;
  • 关键词

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