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首页> 外文会议>2nd International EUSPEN Conference on Precision Engineering Nanotechnology Vol.1, May 27th-31st, 2001, Turin, Italy >Discrete Measurement Data Analysis: A new Method to Characterize Structured Surfaces on Atomic Scale
【24h】

Discrete Measurement Data Analysis: A new Method to Characterize Structured Surfaces on Atomic Scale

机译：离散测量数据分析：一种在原子尺度上表征结构化表面的新方法

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Future manufacturing on atomic scale will imply a metrology that no longer relies on common roughness parameters but considers atomic features, e.g. the crystal structure of the surface, the location of atomic point defects and cluster formations. In this paper a new method to extract these functional and structure oriented surface characteristics is proposed. It is based on the discrete analysis of continuous data measured by STM or AFM. Instead of analysing continuous data and calculating two- and three-dimensional parameters like RMS, R_a, S_q and S_z by intersecting the surface, mathematical and image processing methods are applied to the STM and AFM images to achieve functional and structural data.
机译：未来在原子尺度上的制造将意味着不再依赖于常见粗糙度参数的计量学，而是考虑了原子特征，例如表面的晶体结构，原子点缺陷的位置和簇的形成。本文提出了一种提取这些功能和结构导向的表面特征的新方法。它基于通过STM或AFM测量的连续数据的离散分析。代替分析连续数据并通过与表面相交来计算二维和三维参数（如RMS，R_a，S_q和S_z），将数学和图像处理方法应用于STM和AFM图像以获取功能和结构数据。

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