Synchrotron Radiation Research Center, Japan Atomic Energy Research Institute Tokai-mura, Naka-gun, Ibaraki-ken, 319-1195, Japan;
silicon carbide; graphite; two-dimensional layer; ion implantation; near-edge X-ray absorption fine structure; X-ray photoelectron spectroscopy; polarization dependence; synchrotron radiation;
机译:金上自组装的碳纳米管:偏振调制红外反射吸收光谱,高分辨率X射线光发射光谱和近边缘X射线吸收精细结构光谱研究
机译:金上自组装的碳纳米管:偏振调制红外反射吸收光谱,高分辨率X射线光发射光谱和近边缘X射线吸收精细结构光谱研究
机译:用近边缘X射线吸收精细结构观察到硫酸在Au(111)上的表面结构和化学转换
机译:通过在近边缘X射线吸收细结构中偏振依赖性观察二维石墨的Si_xc
机译:使用近边缘X射线吸收精细结构光谱表征功能化的自组装单分子层和表面连接的互锁分子。
机译:组合表面科学成像近边缘X射线吸收精细结构(MOSAIX)的多重取向和结构分析
机译:金色上的自组装碳纳米管:偏振调制的红外反射吸收光谱,高分辨率X射线照相光谱,以及近边缘X射线吸收细结构研究