首页> 外文会议>2019年第66回応用物理学会春季学術講演会講演予稿集 >高出力パルスマグネトロンスパッタのマイクロ/マクロパルス設計とプラズマ発光分光計測
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高出力パルスマグネトロンスパッタのマイクロ/マクロパルス設計とプラズマ発光分光計測

机译:大功率脉冲磁控溅射的微/宏脉冲设计及等离子体发射光谱测量

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摘要

イオン化物理蒸着(I-PVD)において注目される大電力パルスマグネトロンスパッタリング(HiPIMS)を含む高出力パルスマグネトロンスパッタリング(HPPMS)については、異なる特性を持った高圧パルス電源の導入により、現在、いくつかの方式によって HPPMS が可能となっている。その中のひとつとして、スパッタリング条件の精密制御やアークマネージメントの高度化を目指して開発された変調パルス出力(MPP)方式がある。このMPP方式における出力パルス(通称:マクロパルス)の波形は、入力するマイクロパルス列のパターンに応ずる形で制御される。前回の講演では、MPP方式におけるHPPMSのプラズマ特性を明らかにするため、マクロパルスの波形制御によってプラズマ発光特性の評価を行った結果について報告した。本研究では、マイクロパルスによるプラズマ特性制御の可能性について検討するため、マクロパルスの波形を固定した条件下での入力マイクロパルスに対するプラズマ発光の分光特性評価を行った。
机译:目前,随着高压脉冲电源的推出,包括高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)在内的高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)在离子化物理气相沉积(I-PVD)中引起了人们的关注。具有不同的特性,根据方法的不同,可能会使用HPPMS。其中之一是调制脉冲输出(MPP)方法,其开发目的是精确控制溅射条件和先进的电弧管理。该MPP方法中的输出脉冲(通常称为宏脉冲)的波形以与输入微脉冲序列的模式相对应的形式进行控制。在上一讲中,为了阐明MPP方法中HPPMS的等离子体特性,我们报告了通过控制大脉冲的波形评估等离子体发射特性的结果。在这项研究中,为了研究通过微脉冲控制等离子体特性的可能性,我们在固定大脉冲波形的条件下,评估了输入微脉冲的等离子体发射光谱特性。

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