Georgia Institute of Technology, Atlanta, Georgia 30332-0405, USA Fraunhofer Institute for Material and Beam Technology, Winterbergstr. 28, Dresden 01277, Germany;
Georgia Institute of Technology, Atlanta, Georgia 30332-0405, USA;
Georgia Institute of Technology, Atlanta, Georgia 30332-0405, USA;
Georgia Institute of Technology, Atlanta, Georgia 30332-0405, USA;
PEG-DA; laser interference lithography; hydrogel; biomaterials;
机译:使用激光干涉光刻和阴影光刻技术制造金属纳米线和纳米带
机译:使用405 nm激光二极管的激光干涉光刻技术制造表面编码器的光栅尺
机译:使用405 nm激光二极管的激光干涉光刻技术制造表面编码器的光栅尺
机译:快速制造使用激光干扰光刻的生物相容性水凝胶微生物
机译:激光干涉光刻技术,用于大面积构图和功能纳米结构的制造
机译:激光干涉光刻技术在聚二甲基硅氧烷上制备纳米结构
机译:具有响应水凝胶的等离子体纳米结构局部官能化的UV激光干扰光刻
机译:利用氦镉紫外多模激光制备亚微米结构光学材料的干涉光刻性能研究