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The Fabrication of Nanostructures on Polydimethylsiloxane by Laser Interference Lithography

机译：激光干涉光刻技术在聚二甲基硅氧烷上制备纳米结构

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We report a method for fabricating periodic nanostructures on the surface of polydimethylsiloxane (PDMS) using laser interference lithography. The wave-front splitting method was used for the system, as the period and duty cycle can be easily controlled. Indium tin oxide (ITO) glass reveals favorable characteristics for controlling the standing waves distributed in the vertical direction, and was selected as the rigid substrate for the curing of the PDMS prepolymer, photoresist spin coating, and exposure processes. Periodic nanostructures such as gratings, dot, and hole arrays were prepared. This efficient way of fabricating large area periodic nanoscale patterns will be useful for surface plasmonic resonance and wearable electronics.
机译：我们报告了一种使用激光干涉光刻技术在聚二甲基硅氧烷（PDMS）表面制造周期性纳米结构的方法。该系统采用波前分裂方法，因为可以轻松控制周期和占空比。氧化铟锡（ITO）玻璃具有良好的特性，可控制垂直方向上的驻波，因此被选作PDMS预聚物固化，光致抗蚀剂旋涂和曝光工艺的刚性基材。制备了周期性的纳米结构，例如光栅，点和孔阵列。这种制造大面积周期性纳米尺度图案的有效方法将对表面等离子体共振和可穿戴电子设备有用。

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