School of Chemical Biomolecular Engineering, Georgia Institute of Technology, Atlanta, GA 30332-0100;
Components Research, Intel Corporation, Hillsboro, OR 97124;
School of Chemical Biomolecular Engineering, Georgia Institute of Technology, Atlanta, GA;
chemically amplified resist; photoacid generator; glass transition temperature; ionic; non-ionic; onium salt; triflate; naphthalimide; perfluoro; sulfonate; thin film;
机译:溶液处理的纳米结构金属薄膜的无光刻胶光刻图案
机译:表面粗糙度对超薄膜润滑中润滑剂分子行为的影响
机译:超薄金薄膜在CO氧化过程中纤维材料表面的作用和行为
机译:阐明超薄光致抗蚀剂薄膜的物理化学和光刻行为
机译:具有光刻工艺的基于光阻的聚合物谐振器天线(PRA)和具有改进性能的介电谐振器天线(DRA)。
机译:芳基环氧热固性树脂的光刻性能作为微光学的阴性光致抗蚀剂
机译:用透射电子显微镜研究超薄金薄膜的生长和热去湿行为
机译:去除诸如光致抗蚀剂膜的涂覆膜的方法