机译:邻近电子光刻技术的进展:使用低能电子束邻近投影光刻技术β的打印和覆盖性能演示
机译:邻近电子光刻技术的进展:使用低能电子束邻近投影光刻技术β的打印和覆盖性能演示
机译:低能电子束邻近投影光刻的曝光工具开发现状
机译:低能量电子束邻近投影光刻(LEEPL)的beta工具的性能
机译:快速二次电子对低压电子束光刻的影响。
机译:海藻糖糖醇抗性可通过电子束光刻直接写入蛋白质图案
机译:低能量电子束接近投影光刻曝光工具开发的现状。
机译:用低能电子束引导辐射:FERmILaB的实验计划和状态。