Electrostatic Discharge (ESD); Electrical Overstress (EOS), Scanning Electron Microscopy; Focused Ion Beam; Atomic Force Microscopy; MEMS;
机译:进场物体的静电放电(ESD)的通用模型:多次放电和进场速度的分析(转载于《电气过应力/静电放电研讨会论文集》,2000年)
机译:电气过应力和静电放电应力下MEMS和MOEMS的可靠性测试方法
机译:静电放电对基于砷化镓MESFET的器件中电超应力敏感性的影响
机译:MEMS中的静电放电/电气过长易感性:新的失效模式
机译:非硅器件的静电放电和电气过应力故障。
机译:曲率相关的静电场作为模拟基于膜的MEMS器件的原理。回顾
机译:硅MOS器件中的电气过应力和静电放电故障
机译:mEms中的静电放电/电过载敏感性:一种新的故障模式