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首页> 外文会议>Conference on Optical Microlithography XV Pt.2, Mar 5-8, 2002, Santa Clara, USA >Laser resistance of fused silica for microlithography: experiments and models
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Laser resistance of fused silica for microlithography: experiments and models

机译：熔融石英微光刻的抗激光性：实验和模型

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Laser resistance of fused silica, used as lens material in DUV microlithography, is one of the keys to long-term high-level optical performance of steppers and scanners. The exposure of fused silica to high energy excimer laser pulses over long periods of time modifies the material in several different ways: the optical absorption increases due to laser-induced formation of color centers; the density of the material changes due to structural relaxation and formation of p-hydroxyl (SiOH); and finally the index of refraction changes due to a photorefractive effect. All of these effects affect the imaging quality of illuminator systems and projection lenses, hence the need for fundamental understanding and modeling.
机译：在DUV微光刻中用作透镜材料的熔融石英的耐激光性是实现步进器和扫描仪长期高水平光学性能的关键之一。熔融石英长时间暴露在高能准分子激光脉冲下会以几种不同方式改变材料：由于激光诱导形成的色心，光学吸收增加；材料的密度由于结构松弛和对羟基（SiOH）的形成而改变；最后，折射率由于光折射效应而改变。所有这些影响都会影响照明系统和投影镜头的成像质量，因此需要基本的了解和建模。

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