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首页> 外文会议>Conference on X-Ray Mirrors, Crystals, and Multilayers Jul 30-31, 2001, San Diego, USA >High resolution A1_2O_3/B_4C multilayers
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High resolution A1_2O_3/B_4C multilayers

机译：高分辨率A1_2O_3 / B_4C多层

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To fill the gap in energy resolution ΔE/E between a few percent for multilayer x-ray optics and a few 10~(-4) for perfect crystal optics we have developed narrow bandpass multilayers consisting of A1_2O_3 and B_4C layers. Their resolving power was precisely determined on the ESRF bending magnet beamline BM5 using a white beam and a Si(l 11) analyzer crystal. Scans in the (n,+m) and in the (n,-m) scattering geometry return consistent results. With a sample of 680 double layers we have obtained a spectral resolution of 0.27% at energies around 12 keV which is in good agreement with earlier studies using monochromatic x-rays.
机译：为了填补能量分辨率ΔE/ E的不足，多层X射线光学器件的百分比为几分之几，而完美晶体光学器件的分辨率为10〜（-4）几分之间，我们开发了由A1_2O_3和B_4C层组成的窄带通多层。使用白光束和Si（11）分析仪晶体在ESRF弯曲磁体光束线BM5上精确确定了它们的分辨能力。在（n，+ m）和（n，-m）散射几何形状中扫描将返回一致的结果。通过680个双层样品，我们在12 keV左右的能量下获得了0.27％的光谱分辨率，这与早期使用单色X射线的研究非常吻合。

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