Gauda Inc. 3333 Bowers Avenue, Santa Clara, CA, 95054 U.S.A.;
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optimization; graphics processors; inverse lithography; computational lithography; full-chip; feedback control;
机译:反光刻技术的双图形掩膜生成方法
机译:溶液处理有机半导体的非浮雕光刻图案
机译:6纳米半间距线和0.04微米(2)静态随机访问存储模式的纳米压印光刻
机译:基于GPU的全芯片逆光刻解决方案,用于随机图案
机译:通过电光刻和电印刷光刻进行纳米级蛋白质图案化。
机译:胶体光刻法制备湿敏性聚乙二醇逆蛋白石微图案
机译:用胶体光刻制备湿度敏感聚(乙二醇)逆蛋白质微图案的制备