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首页> 外文会议>Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV >Pulsed electron-beam source for high-resolution high-throughput microlithography
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Pulsed electron-beam source for high-resolution high-throughput microlithography

机译：高分辨率高通量微光刻的脉冲电子束源

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Abstract: Research and development of a broad area ($GRT 1 cm diameter), high brightness (approximately 10$+7$/ A/cm$+2$/ rad$+2$/), high current density ($GRT 50 A/cm$+2$/), pulsed electron beam source for high throughput, high resolution ($LS 0.25 $mu@m) lithography is reported. This novel electron beam source is simple, robust, will cost significantly less than direct write electron beam systems, and allows for high throughput pattern generation ($GRT 30 2 - 3 inch wafers/hr). The electron beam is produced by the back-lighted thyratron (BLT) and is transported through a dielectric tube to achieve focusing and collimation. Replication of 10 $,mu@m line structures in PMMA using a nickel grid mask has been achieved. At present, masks comprised of diamond thin film (1 - 15 $mu@m) membranes on a silicon substrate are being fabricated to study the replication of submicrometer structures in PMMA. In this case, of primary importance are mask heating and deformation. !16
机译：摘要：广域（直径1厘米的GRT），高亮度（大约10 $ + 7 $ / A / cm $ + 2 $ / rad $ + 2 $ /），高电流密度（$ GRT 50）的研究与开发报道了一种用于高通量，高分辨率（$ LS 0.25 $μm）光刻的脉冲电子束源A / cm $ + 2 $ /。这种新颖的电子束源简单，坚固，比直接写入电子束系统的成本低得多，并且可以产生高通量的图案（$ GRT 30 2-3英寸晶圆/小时）。电子束由背光晶闸管（BLT）产生，并通过介电管传输以实现聚焦和准直。使用镍栅板掩模已经实现了在PMMA中复制10微米线结构。目前，正在制造由在硅衬底上的金刚石薄膜（1-15μm）膜组成的掩模，以研究亚微米结构在PMMA中的复制。在这种情况下，最重要的是掩模的加热和变形。 ！16

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