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Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing
Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing
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1.
Fine undercut control in bilayer PMMA-P(MMA-MAA) resist system for e-beam lithography with submicrometer resolution
机译:
双层PMMA-P(MMA-MAA)抗蚀剂系统的细底切控制,具有亚微米分辨率的电子束光刻
作者:
Alexei L. Bogdanov
;
Eva K. Andersson
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
2.
Advanced lithographic methods for contact patterning on severe topography
机译:
在严重地形上的接触图案化的先进光刻方法
作者:
Ron Chu
;
James S. Greeneich
;
Barton A. Katz
;
Hwang-Kuen Lin
;
Dong-Tsair Huang
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
3.
Spherical pinch x-ray generator prototype for microlithography
机译:
用于微光刻的球形捏X射线发电机原型
作者:
Kenji Kawai
;
Emilio Panarella
;
D.Mostacci Advanced Laser and Fusion Technology Inc. Hull Quebec Canada.
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
4.
Nanometer scale focused ion beam vacuum lithography using an ultrathin oxide resist
机译:
纳米垢聚焦离子束真空光刻使用超薄氧化物抗蚀剂
作者:
Lloyd R. Harriott
;
Henryk Temkin
;
C.H. Chu
;
Yuh-Lin Wang
;
Y.F. Hsieh
;
Robert A. Hamm
;
Morton B. Panish
;
H.H. Wade
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
5.
Wet-developed high-aspect-ratio resist patterns by 20-keV e-beam lithography
机译:
湿式开发的高纵横比抗蚀剂图案由20-kev电子束光刻
作者:
Andre P. Weill
;
Gilles R. Amblard
;
Frederic P. Lalanne
;
Jean-Pierre Panabiere
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
6.
DESIRE technology with electron-beam resists: fundamentals experiments and simulation
机译:
使用电子束抗蚀剂的欲望技术:基础实验和模拟
作者:
Dan V. Nicolau
;
Florin Fulga
;
Mircea V. Dusa
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
7.
Multiple scattered electron-beam effect in electron-beam lithography
机译:
电子束光刻中的多个散射电子束效应
作者:
Norio Saitou
;
Teruo Iwasaki
;
Fumio Murai
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
8.
Simulation of low-energy x-ray lithography using a diamond membrane mask
机译:
用金刚石膜面膜仿真低能量X射线光刻
作者:
Shinya Hasegawa
;
Katsumi Suzuki
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
9.
Multilayer optics for soft x-ray projection lithography: problems and prospects
机译:
软X射线投影光刻的多层光学器件:问题和前景
作者:
Daniel G. Stearns
;
Natale M. Ceglio
;
Andrew M. Hawryluk
;
Robert S. Rosen
;
Stephen P. Vernon
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
10.
Design and fabrication of soft x-ray photolithography experimental beam line at Beijing National Synchrotron Radiation Laboratory
机译:
北京国家同步辐射实验室软X射线光刻实验梁线的设计与制造
作者:
Changxin Zhou
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
11.
Comparison of plasma source with synchrotron source in the Center for X-ray Lithography
机译:
X射线光刻中心的同步rotron源的等离子体源的比较
作者:
Jerry Z. Guo
;
Franco Cerrina
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
12.
Mushroom-shaped gates defined by e-beam lithography down to 80-nm gate lengths and fabrication of pseudomorphic HEMTs with a dry-etched gate recess
机译:
由电子束光刻定义的蘑菇形栅极,下降到80nm栅极长度和用干蚀刻闸门凹槽的假形螺母制造
作者:
Axel Huelsmann
;
G.Kaufel Fraunhofer-Institut fuer Angewandte Festkoerperphysik Freiburg Federal Republic of Germany
;
Brian Raynor
;
Klaus Koehler
;
T.Schweizer Fraunhofer-Institut fuer Angewandte Festkoerperphysik Freiburg Federal Republic of Germany
;
Juergen Braunstein
;
M.Schlechtweg Fraunhofer-Institut fuer Angewandte Festkoerperphysik Freiburg Federal Republic of Germany
;
Paul J. Tasker
;
Theo F. Jakobus
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
13.
EXCON: a graphics-based experiment-control manager
机译:
Excon:基于图形的实验控制管理器
作者:
Mumit Khan
;
Paul D. Anderson
;
Franco Cerrina
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
14.
Process latitudes in projection printing
机译:
投影打印过程纬度
作者:
Eytan Barouch
;
Uwe Hollerbach
;
Steven A. Orszag
;
Brian D. Bradie
;
Martin C. Peckerar
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
15.
Mix-and-match lithography for half-micrometer technology
机译:
半千分尺技术的混合和匹配光刻
作者:
Warren W. Flack
;
David H. Dameron
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
16.
Investigation on the effect of electron-beam acceleration voltage and electron-beam sharpness on 0.2-um patterns
机译:
电子束加速电压和电子束锐度对0.2μm模式的影响研究
作者:
Akemi Moniwa
;
Shinji Okazaki
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
17.
Recent developments of x-ray lithography in Canada
机译:
加拿大X射线光刻的最新发展
作者:
Mohamed Chaker
;
S.Boily INRS-Energie Varennes Quebec Canada
;
A.Ginovker INRS-Energie Varennes Quebec Canada
;
A.Jean INRS-Energie MTL Quebec Canada
;
Jean C. Kieffer
;
P.P. Mercier
;
Henri Pepin
;
Pak K. Leung
;
John F. Currie
;
Hugues Lafontaine
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
18.
Modeling of illumination effects on resist profiles in x-ray lithography
机译:
X射线光刻中抗蚀剂抗蚀剂的建模
作者:
Heinrich K. Oertel
;
M.Weiss Fraunhofer-Institut fuer Mikrostrukturtechnik-IMT Berlin 33 Federal Republic of Germany
;
Hans L. Huber
;
Yuli Vladimirsky
;
Juan R. Maldonado
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
19.
Parametric studies and characterization measurements of x-ray lithography mask membranes
机译:
X射线光刻掩模膜的参数研究和表征测量
作者:
Gregory M. Wells
;
Hector T. Chen
;
Roxann L. Engelstad
;
Shane R. Palmer
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
20.
Video-based alignment system for x-ray lithography
机译:
基于视频X射线光刻对齐系统
作者:
R.E. Hughlett
;
Keith A. Cooper
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
21.
High-sensitivity and high-dry-etching durability positive-type electron-beam resist
机译:
高灵敏度和高干蚀刻耐久性正型电子束抗蚀性
作者:
Akira Tamura
;
Masaji Yonezawa
;
Mitsuyoshi Sato
;
Yoshiaki Fujimoto
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
22.
Chemically amplified resists for x-ray and e-beam lithography
机译:
用于X射线和电子束光刻的化学放大抗蚀剂
作者:
Amanda K. Berry
;
Karen A. Graziano
;
Stephen D. Thompson
;
James W. Taylor
;
Doowon Suh
;
Dean Plumb
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
23.
Novel toroidal mirror enhances x-ray lithography beamline at the Center for X-ray Lithography
机译:
新型环形镜在X射线光刻中心增强X射线光刻梁线
作者:
Richard K. Cole
;
Franco Cerrina
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
24.
Hierarchical proximity effect correction for e-beam direct writing of 64-Mbit DRAM
机译:
64-Mbit DRAM的电子束直接写入的分层接近效应校正
作者:
Akio Misaka
;
Kazuhiko Hashimoto
;
M.Kawamoto Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. Moriguchi Osaka Japan
;
H.Yamashita Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. Moriguchi Osaka Japan
;
Takahiro Matsuo
;
Toshihiko Sakashita
;
Kenji Harafuji
;
Noboru Nomura
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
25.
Optimization of an x-ray mask design for use with horizontal and vertical kinematic mounts
机译:
用于水平和垂直运动型安装的X射线掩模设计的优化
作者:
Daniel L. Laird
;
Roxann L. Engelstad
;
Shane R. Palmer
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
26.
System design considerations for a production-grade ESR-based x-ray lithography beamline
机译:
基于生产级ESR的X射线光刻束线的系统设计考虑
作者:
Stephen Kovacs
;
Dan Melore
;
Franco Cerrina
;
Richard K. Cole
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
27.
Defect repair for gold absorber/silicon membrane x-ray masks
机译:
金吸收器/硅膜X射线面罩的缺陷修复
作者:
Diane K. Stewart
;
Jacob Fuchs
;
Robert A. Grant
;
Irving Plotnik
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
28.
Focused ion beam induced deposition: a review
机译:
聚焦离子束诱导沉积:综述
作者:
John Melngailis
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
29.
X-ray lithography system development at IBM: overview and status
机译:
IBM X射线光刻系统开发:概述和状态
作者:
Juan R. Maldonado
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
30.
Cost-effective x-ray lithography
机译:
具有成本效益的X射线光刻
作者:
Tom J. Roltsch
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
31.
Resist patterning for sub-quarter-micrometer device fabrications
机译:
抵抗次季度微米器件的抗蚀剂图案化
作者:
Kaolin G. Chiong
;
Fritz J. Hohn
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1991年
32.
Direct inclusion of the proximity effect in the calculation of kinoforms
机译:
直接包含在KinoForms计算中的邻近效应
作者:
Jorgen Bengtsson
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1994年
33.
Techniques for determination of the absorbed energy density function in electron-beam lithography
机译:
电子束光刻中吸收能量密度函数的测定技术
作者:
Sergei V. Babin
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1994年
34.
Interferometric investigation of x-ray mask fabrication distortions
机译:
X射线面膜制造扭曲的干涉调查
作者:
Matthew E. Hansen
;
Roxann L. Engelstad
;
Michael T. Reilly
;
Frederick T. Moore
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1994年
35.
High-sensitivity x-ray mask damage studies employing holographic gratings and phase-shifting interferometry
机译:
采用全息光栅和相移干涉测量的高灵敏度X射线掩模损伤研究
作者:
Matthew E. Hansen
;
Franco Cerrina
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1994年
36.
Optimization of ESCAP photoresist for x-ray lithography
机译:
X射线光刻的亚太岩层光刻胶的优化
作者:
Andrew T. Pomerene
;
Karen Petrillo
;
David E. Seeger
;
Hiroshi Ito
;
Gregory Breyta
;
Donald C. Hofer
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1994年
37.
Pulsed electron-beam source for high-resolution high-throughput microlithography
机译:
用于高分辨率高吞吐量微光刻的脉冲电子束源
作者:
Tseng-Yang Hsu
;
Peyman Hadizad
;
Rong L. Liou
;
Greg Roth
;
Martin A. Gundersen
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1994年
38.
Proximity correction of high-dosed frame with PROXECCO
机译:
使用Proxecco的高剂量框架的邻近校正
作者:
Hans Eisenmann
;
Thomas Waas
;
Hans Hartmann
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1994年
39.
Improved proximity correction algorithm for electron-beam lithography
机译:
改进的电子束光刻接近校正算法
作者:
Wu Lu
;
Haoying Y. Shen
;
Jingxin X. Tao
;
Ning Gu
;
Yu Wei
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1994年
40.
Development of a membrane-etch wet station for x-ray masks
机译:
开发X射线面罩的膜蚀刻湿地
作者:
Susan S. Marine
;
Douglas E. Benoit
;
Kevin W. Collins
;
Kurt R. Kimmel
;
Harold G. Linde
;
Jeffrey P. Lissor
;
Danny M. Plouff
;
James A. Warner
;
Charles A. Whiting
;
Jeff D. Towne
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1994年
41.
application and experimental verification of finite element modeling of frictioneffects for x-ray lithography mask mounts
机译:
X射线光刻掩模罩摩擦效应有限元建模的应用与实验验证
作者:
Hector T. Chen
;
Matthew E. Hansen
;
Roxann L. Engelstad
;
William A. Johnson
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1994年
42.
Reactive-ion etching of tungsten for high-resolution x-ray masks
机译:
用于高分辨率X射线面罩的钨的反应离子蚀刻
作者:
Loretta M. Shirey
;
Kelly W. Foster
;
William P. Chu
;
John Kosakowski
;
Kee W. Rhee
;
Elizabeth A. Dobisz
;
Charles R. Eddy
;
D.W. Park
;
I.P. Isaacson
;
Daniel McCarthy
;
Christie R. Marrian
;
Martin C. Peckerar
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1994年
43.
Synchrotron irradiation stability of x-ray masks utilizing stress-free W-Ti absorbers and SiC membranes
机译:
利用无压力W-Ti吸收剂和SiC膜的同步X射线面罩的同步辐照稳定性
作者:
Hiroshi Okuyama
;
Yoshio Yamashita
;
Kenji Marumoto
;
Hideki Yabe
;
Yasuji Matsui
;
Yoh-ichi Yamaguchi
;
Tsutomu Shoki
;
Hiroyuki Nagasawa
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1994年
44.
Micromechanics for actuators via deep x-ray lithography
机译:
通过深X射线光刻执行致动器的微机械
作者:
Henry Guckel
;
Kenneth J. Skrobis
;
Todd R. Christenson
;
J.Klein Univ. of Wisconsin/Madison Madison WI USA.
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1994年
45.
Very simple data processing system for deep submicron nanofabrication
机译:
深度亚微米纳米制备的非常简单的数据处理系统
作者:
Shyi-Long Shy
;
T.F. Lei
;
C.H. Chu
;
C.Y. Chang
;
S.H. Lee
;
Wen An Loong
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1994年
46.
Neon dense plasma focus point x-ray source for <=0.25 um lithography
机译:
霓虹灯致密等离子体焦点X射线源<= 0.25 um光刻
作者:
Rahul R. Prasad
;
Mahadevan Krishnan
;
Joseph Mangano
;
Philip A. Greene
;
Niansheng Qi
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
|
1994年
47.
Submicron e-beam lithography process using an overcoating conducting polymer for the reduction of beam charging effects on lithium niobate and quartz
机译:
亚微米电子束光刻工艺使用过涂的导电聚合物来减少铌酸锂和石英的光束充电效应
作者:
Christine D. Kondek
;
Louis C. Poli
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
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1994年
48.
Alignment accuracy improvement by consideration of wafer processing impacts
机译:
通过考虑晶圆加工影响,对准精度改善
作者:
Klaus Simon
;
H.-U. Scheunemann
;
Hans L. Huber
;
P.Kaiser Karl Suss KG Garching Federal Republic of Germany.
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
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1994年
49.
22-nm overlay accuracy of synchrotron radiation stepper using an improved chromatic bifocus alignment system
机译:
22-nm使用改进的彩色双歧孔对准系统的同步辐射步进的叠加精度
作者:
Shiro Hamada
;
Kazuhiro Ito
;
Tsutomu Miyatake
;
Fumiaki Sato
;
Kazunori Yamazaki
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
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1994年
50.
Total evaluation of W-Ti absorber for x-ray mask
机译:
X射线面罩W-TI吸收剂的总评价
作者:
Kenji Marumoto
;
Hideki Yabe
;
Sunao Aya
;
Koji Kise
;
Yasuji Matsui
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
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1994年
51.
Ion projection: the successor to optical lithography
机译:
离子投影:光学光刻的后继者
作者:
Hans Loeschne
;
Gerhard Stengl
;
Ivan L. Berry
;
John N. Randall
;
John C. Wolfe
;
Walter Finkelstein
;
Robert W. Hill
;
John Melngailis
;
Lloyd R. Harriott
;
Wilhelm Bruenger
;
L.M. Buchmann
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
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1994年
52.
Modeling of a positive chemically amplified photoresist for x-ray lithography
机译:
X射线光刻的正化学扩增光致抗蚀剂的建模
作者:
Azalia A. Krasnoperova
;
Steven J. Rhyner
;
Yequi Zhu
;
James W. Taylor
;
Franco Cerrina
;
Whitson G. Waldo
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
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1994年
53.
Dry-etch characteristics of chemically amplified and onium-salt-sensitized electron-beam resists
机译:
化学放大和鎓盐敏化电子束抗蚀剂的干蚀刻特性
作者:
Syed E. Huq
;
Philip D. Prewett
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
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1994年
54.
Development of a laboratory extreme-ultraviolet lithography tool
机译:
一种实验室极端紫外线光刻工具的开发
作者:
Daniel A. Tichenor
;
Glenn D. Kubiak
;
Michael E. Malinowski
;
Richard H. Stulen
;
Steven J. Haney
;
Kurt W. Berger
;
Rodney P. Nissen
;
G.A. Wilkerson
;
Phillip H. Paul
;
S.R. Birtola
;
P.S. Jin
;
Richard W. Arling
;
Avi K. Ray-Chaudhuri
;
William C. Sweatt
;
Weng W. Chow
;
John E. Bjorkholm
;
Richard R. Freeman
;
Marc D. Himel
;
Alastair A. MacDowell
;
Donald M. Tennant
;
L.A. Fetter
;
Obert R. Wood
;
Warren K. Waskiewicz
;
Donald L. White
;
David L. Windt
;
Tanya E. Jewell
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
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1994年
55.
Recent progress in gas field ion source technology
机译:
气田离子源技术的最新进展
作者:
Christoph Wilbertz
;
Thomas Miller
;
Sigfried Kalbitzer
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
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1994年
56.
Vertical lithography: controlling resist profiles in optical lithography with a large area electron beam
机译:
垂直光刻:用大面积电子束控制光学光刻中的抗蚀剂曲线
作者:
William R. Livesay
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
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1994年
57.
Cell projection electron-beam lithography
机译:
电池投影电子束光刻
作者:
Norio Saitou
;
Yoshio Sakitani
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
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1994年
58.
Effect of condenser mirror surface roughness on partially coherent image formation in proximity x-ray lithography
机译:
冷凝器镜面粗糙度对近距离X射线光刻部分相干图像形成的影响
作者:
Jiabei Xiao
;
Franco Cerrina
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
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1994年
59.
1-kW x-pinch soft x-ray source
机译:
1-KW X-PINCH软X射线源
作者:
Steven C. Plidden
;
M.R. Richter
;
D.A. Hammer
;
D.H. Kalantar
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
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1994年
60.
Chemically amplified negative resist for e-beam fabrication of x-ray masks
机译:
用于X射线面罩的电子束制造的化学放大负抗蚀剂
作者:
Ahmad D. Katnani
;
Janet M. Rocque
;
Ranee W. Kwong
;
Denise Puisto
;
Donald K. Bailey
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
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1994年
61.
Advances in focused ion-beam repair of opaque defects
机译:
不透明缺陷的聚焦离子束修复进展
作者:
David C. Ferranti
;
John C. Morgan
;
William B. Thompson
;
William C. Joyce
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
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1994年
62.
Miniature electron microscopes for lithography
机译:
用于光刻的微型电子显微镜
作者:
Alan D. Feinerman
;
David A. Crewe
;
Dung-Ching Perng
;
Capp A. Spindt
;
Paul R. Schwoebel
;
Albert V. Crewe
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
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1994年
63.
Comparative study of x-ray lithography process optimization using theoretical and empirical tools
机译:
X射线光刻工艺优化使用理论和经验工具的比较研究
作者:
Whitson G. Waldo
;
Cristiano Capasso
;
Azalia A. Krasnoperova
;
Mumit Khan
;
James W. Taylor
;
Franco Cerrina
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
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1994年
64.
Cost of ownership for x-ray proximity lithography
机译:
X射线接近光刻的所有权成本
作者:
Kathy Early
;
William H. Arnold
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
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1994年
65.
X-ray lithography processing at CXrL from beamline to quarter-micron NMOS devices
机译:
CXRL的X射线光刻处理从梁线到四分之一微米NMOS器件
作者:
Ramez Nachman
;
Gong Chen
;
Michael T. Reilly
;
Gregory M. Wells
;
John P. Wallace
;
Hsin H. Li
;
Azalia A. Krasnoperova
;
Paul D. Anderson
;
Eric Brodsky
;
Eti Ganin
;
Stephen A. Campbell
;
James W. Taylor
;
Franco Cerrina
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
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1994年
66.
Spectral effects on x-ray lithography
机译:
X射线光刻的光谱效应
作者:
Whitson G. Waldo
;
Azalia A. Krasnoperova
;
Mumit Khan
;
Cristiano Capasso
;
James W. Taylor
;
Franco Cerrina
会议名称:
《Conference on electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing》
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1994年
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