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【24h】

Panasonic's Thin Film Silicon Technologies for Advanced Photovoltaics

机译：松下用于高级光伏的薄膜硅技术

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摘要

We have fabricated high-efficiency a-Si/μc-Si tandem solar cells and modules with a very high μc-Si deposition rate using Localized Plasma Confinement CVD to give very high-rate deposition (＞2.0 nm/s) of device-grade μc-Si layers. For further progress in productive plasma-CVD techniques, we have studied plasma phenomena by combining newly developed plasma simulation and plasma diagnosis techniques that reveal the importance of non-emissive atomic hydrogen. We also have proposed a model of defective μc-Si formation on highly textured substrates in which the atomic H in plasma is assumed to play an important role. We are also developing a non-vacuum deposition technique that we term "Liquid Si Printing." A new record conversion efficiency for HIT solar cells of 24.7% has been achieved using a very thin c-Si wafer (Thickness: 98 μm, Area: 102 cm~2).
机译：我们使用局域等离子约束CVD制备了具有非常高的μc-Si沉积速率的高效a-Si /μc-Si串联太阳能电池和模块，可实现极高速率的器件级沉积（> 2.0 nm / s） μc-Si层。为了在生产性等离子体CVD技术方面取得进一步进展，我们通过结合新开发的等离子体模拟和等离子体诊断技术研究了等离子体现象，这些技术揭示了非发射原子氢的重要性。我们还提出了一种在高度织构化的衬底上形成有缺陷的μc-Si的模型，其中假定等离子体中的原子H起着重要作用。我们还在开发一种称为“ Liquid Si Printing”的非真空沉积技术。使用非常薄的c-Si晶圆（厚度：98μm，面积：102 cm〜2），HIT太阳能电池的转换效率达到了创纪录的24.7％。

著录项

  • 来源
  • 会议地点 San Francisco CA(US)
  • 作者

    Akira Terakawa; Hiroko Murayama; Yohko Naruse; Hirotaka Katayama; Takeyuki Sekimoto; Shigeo Yata; Mitsuhiro Matsumoto; Isao Yoshida; Mitsuoki Hishida; Youichiro Aya; Masahiro Iseki; Mikio Taguchi; Makoto Tanaka;

  • 作者单位

    Panasonic Corporation 3-1-1 Yagumo-naka-machi, Moriguchi 570-8501, Japan;

    Panasonic Corporation 3-1-1 Yagumo-naka-machi, Moriguchi 570-8501, Japan;

    Panasonic Corporation 3-1-1 Yagumo-naka-machi, Moriguchi 570-8501, Japan;

    Panasonic Corporation 3-1-1 Yagumo-naka-machi, Moriguchi 570-8501, Japan;

    Panasonic Corporation 3-1-1 Yagumo-naka-machi, Moriguchi 570-8501, Japan;

    Panasonic Corporation 3-1-1 Yagumo-naka-machi, Moriguchi 570-8501, Japan;

    Panasonic Corporation 3-1-1 Yagumo-naka-machi, Moriguchi 570-8501, Japan;

    Panasonic Corporation 3-1-1 Yagumo-naka-machi, Moriguchi 570-8501, Japan;

    Panasonic Corporation 3-1-1 Yagumo-naka-machi, Moriguchi 570-8501, Japan;

    Panasonic Corporation 3-1-1 Yagumo-naka-machi, Moriguchi 570-8501, Japan;

    Panasonic Corporation 3-1-1 Yagumo-naka-machi, Moriguchi 570-8501, Japan;

    Panasonic Corporation 3-1-1 Yagumo-naka-machi, Moriguchi 570-8501, Japan;

    Panasonic Corporation 3-1-1 Yagumo-naka-machi, Moriguchi 570-8501, Japan;

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