University of California Lawrence Livermore National Laboratory P.O. Box 808, L-592 Livermore, CA 94550;
mitigation; CO_2; fused silica; laser damage; galvanometer; scanning;
机译:CO_2激光微处理用于激光损伤的融合二氧化硅光学的增长缓解
机译:脉冲长度对CO_2激光对熔融石英光学元件蒸发减轻损伤的热影响区的影响
机译:CO_2激光减轻熔融石英表面上的紫外线激光损伤部位
机译:用电流计扫描CO_2激光减轻熔融石英丝光光学熔融硅胶的激光损伤生长
机译:熔融石英中的高功率激光损坏。
机译:先进的缓解技术(AMP)可提高熔融石英光学器件的激光损伤阈值
机译:CO 2激光减缓激光损伤生长融合二氧化硅的机制