Toshiba R D Center 1, Komukai Toshiba-cho, Saiwai-ku, Kawasaki 212-8582, Japan;
metal-insulator-semiconductor structures (including semiconductor-to-insulator); field effect devices;
机译:HfO2绝缘体对场镀GaN基HEMT中击穿电压提高的影响
机译:Hf02绝缘体对场镀GaN基HEMT中击穿电压提高的影响
机译:具有源极连接场板的高击穿电压GaN基电流孔径垂直电子晶体管的研究
机译:基于高压GaN的功率HEMTS具有现场板技术:击穿电压和开关特性
机译:高频高效高压软交换电源转换器的设计技术
机译:宽带隙GaN基HEMT功率器件中取决于高温操作的阈值电压稳定性的模型开发
机译:使用栅极板,源场板和排水场板仿真AlGaN / GaN Hemts'击穿电压增强