RD Association for Future Electron Devices(FED), Advanced Power Device Laboratory, c/o AIST Central 2, 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, Japan;
dendrites; inclusions; misoriented phase; modified lely method; Si droplet; SiC bulk crystal growth; titanium; vanadium;
机译:PVT法生长的SiC晶体碳含量的研究
机译:PVT法生长6H-SiC块状单晶中缺陷形成的特殊性
机译:使用颈缩技术通过CF-PVT方法生长的块状3C-SiC晶体中缺陷过滤效应的光学研究
机译:通过CF-PVT方法表征在4H-SiC上生长的块体<111> 3C-SiC单晶
机译:通过升华法生长的块状3C-SiC单晶的研究。
机译:物理蒸汽传输生长的散装铝合金单晶的X射线特征
机译:通过CF-PVT法在4H-SiC上生长的体积<111> 3C-SiC单晶的表征
机译:改进CVD技术制备块状sic晶体的体系