Department of Electrical Computer Engineering, Mississippi State University, Box 9571, Mississippi State, MS 39762, USA;
defect reactions; defect migration; hydrogen; passivation; photoluminescence;
机译:重组诱导的4H和6H-SiC中氢缺陷络合物的形成:电学和光学表征
机译:重组诱导的SiC中氢和氘的无热迁移
机译:SiC中包含氢配合物和硅空位的亚稳和不可转移重组诱导的缺陷反应
机译:重组诱导的4H和6H-SIC中的氢缺陷复合物的形成:电气和光学表征
机译:约束对二硼化锆-碳化硅(ZrB2-SiC)复合材料变形行为的影响。
机译:双键位置和环尺寸对氢键配合物稳定性的影响
机译:质子植入硅中氢气复合物的形成及其对晶体损伤的影响
机译:ZrC和siC添加剂对BIsO涂层(Th,U)O亚2基团热迁移的影响