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首页> 外文会议>International symposium on System synthesis >The deposition of ultra nanocrystalline diamond films using a Ar/H2/CH4 microwave discharge
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The deposition of ultra nanocrystalline diamond films using a Ar/H2/CH4 microwave discharge

机译：使用Ar / H沉积超纳米晶金刚石膜 2 / CH 4 微波放电

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Summary form only given. During the past ten years, plasmaassisted chemical deposition of diamond thin films has been extensivelyinvestigated by many research groups. These experimental investigationshave shown that diamond films can be synthesized from heated or ionizedH2/CH4 gas mixtures. The synthesized films resultin a columnar growth texture with rough surface; i.e. the films arepolycrystalline. This surface roughness usually prevents these filmsfrom being used in many wear and cutting tool applications. Thus, it isdesirable to develop new methods to synthesize small crystalline andsmooth diamond films. This investigation presents the experimentalresults concerned with the development of a new method of synthesizingsmooth, ultra-nanocrystalline films. Building upon the experimentalresults of Gruen (Zhou et al., 1998), microwave plasma assisted filmdeposition is investigated using carbon containing Ar plasma.Experiments are performed with a MSU developed microwave plasma reactor.In this investigation the dominant input gas is argon. CH4concentrations are less than 3% and H2 concentrations arelimited to less than 6% of the total input gases
机译：仅提供摘要表格。在过去的十年中，血浆 金刚石薄膜的化学辅助沉积已得到广泛应用 许多研究小组对此进行了调查。这些实验研究 表明金刚石薄膜可以由加热或电离合成 H 2 / CH 4 气体混合物。合成的电影结果 具有粗糙表面的柱状生长纹理;即电影是 多晶。这种表面粗糙度通常可以防止这些薄膜 被用于许多磨损和切削工具的应用中。因此，它是 希望开发新的方法来合成小晶体和 光滑的钻石膜。这项调查提出了实验性的 结果与开发一种新的合成方法有关 光滑的超纳米晶膜。以实验为基础 Gruen的研究结果（Zhou等，1998），微波等离子体辅助薄膜 使用含碳的Ar等离子体研究沉积。 用MSU开发的微波等离子体反应器进行实验。 在这项研究中，主要的输入气体是氩气。 CH 4 浓度小于3％，H 2 浓度小于 限制为少于总输入气体的6％

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