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Newly developed mask inspection system with DUV laser illumination

机译：具有DUV激光照明的新开发的面膜检测系统

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A new mask inspection system for 150nm and 130nm semiconductor devices which utilizes a DUV laser of 257nm wavelength for an inspection illumination has been developed. A newly developed optical phase shift disk cancels the speckle noise caused by the high coherency of a laser. The phase shift disk has micro pits with different depths disposed randomly over the entire plate surface. The speckle pattern changes randomly by rotating the plate, and averagign pattern image by Time Delay Integration (TDI) sensor cancels the speckle noise of the laser illumination. Using this method, inspection of masks was realized at DUV wavelength.
机译：已经开发出利用257nm波长的DUV激光器的150nm和130nm半导体器件的新掩模检查系统已经开发出了检查照明。新开发的光学相移盘取消了激光的高一致性引起的斑点噪声。相移盘具有微凹坑，其具有随机设置在整个板表面上的不同深度。散斑图案通过旋转板随机而随机变化，并且随着时间延迟积分（TDI）传感器的Averagign图案图像取消了激光照明的散斑噪声。使用这种方法，在DUV波长中实现了对掩模的检查。

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