alternating phase shift masks; mask inspection; phase defects defect printability; glass defect repair;
机译:通过EUV图案晶圆的全芯片光学检测来检测可印刷的EUV掩模吸收层缺陷和缺陷添加物
机译:通过建模和仿真方法评估掩埋的原生极紫外掩膜相缺陷的可印刷性
机译:使用空白检查,图案化掩模检查和晶圆检查来评估极端紫外线掩模缺陷
机译:隐式移位器交替相移掩模的可印刷性评估和相缺陷检查
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:超声相控阵检查用于近场缺陷的瞬时相干成像
机译:利用光化学检测和快速模拟研究埋藏EUV掩模缺陷的可印刷性