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Development of Hard Pellicle for 157 nm

机译：157 nm的硬囊肿的开发

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Projection photolithography at 157 nm is now under research as a possible extension of current 248 nm and planned 193 nm technologies .We have found that a thin-film fused silica glass pellicle would be available to 157nm lithography because of its high durability to F2 laser irradiation. In this paper, we present the performance of the hard pellicle made of AQF. Transmission is 97.6% when AR films are coated on both surfaces, and its uniformity at 157.6 nm is better than +/-0.2 %, and birefringence is within 1 nm. We developed a new evaluation system of a hard pellicle bending in horizontal position and in vertical position. We achieved less than lum sagging with 800um thickness membrane and glass frame made of modified fused silica in horizontal position.
机译：投影光刻在157nm处现在正在研究中作为电流248nm的可能延伸，并计划193个NM技术。我们发现薄膜熔融石英玻璃薄膜可用于157nm的光刻，因为其对F2激光照射的高耐久性。在本文中，我们介绍了由AQF制成的硬质薄膜的性能。当Ar膜涂覆在两个表面上时，传输为97.6％，并且其在157.6nm处的均匀性优于+/- 0.2％，双折射在1nm内。我们开发了一种在水平位置和垂直位置处的硬薄膜弯曲的新评估系统。我们达到厚度低于800um厚度膜和由水平位置的改性熔融二氧化硅制成的玻璃框架。

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