Institute of Microelectronics and Informatics of RAS, Universitetskaya 21, Yaroslavl, Russia;
机译:亚微米技术中VLSI电路结构形成中的聚酰亚胺成分
机译:采用聚酰亚胺绝缘的新型VLSI多级金属化技术
机译:具有光酸产生剂的具有缩醛结构的聚酰亚胺:新型正聚酰亚胺光刻胶
机译:用于多级互连VLSI技术的聚酰亚胺光致抗蚀剂
机译:先进的工艺技术,用于在集成电路制造中去除图案化的离子注入光刻胶
机译:VLSI技术中高K材料的新兴应用
机译:VLSI-SoC:系统集成技术:第17届IFIP WG 10.5 / IEEE超大规模集成国际会议,VLSI-SoC 2009,巴西弗洛里亚诺波利斯,2009年10月12日至14日,修订的论文