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In-line inspection of DRC generated Hotspots

机译：在线检查DRC生成的热点

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Design Hotspots are features on a silicon chip, which are susceptible to pattern failures. While multiple methods like DRC, ORC and CFM inspection are used to identify these Hotspots, in-line monitoring of these design Hotspots has remained a challenge. Existing methods of Hotspot inspection, which include API and EBI are not suited for large scale inspection due to system limitations and throughput limitations respectively. NanoPoint inspection, which is a recent advance in BBP inspection, has enabled in-line inspection of Design Hotspots at very high throughput. In this paper, a methodology for in-line inspection of Design Hotspots using NanoPoint BBP inspection is presented.
机译：设计热点是硅芯片上的功能，很容易发生图案故障。虽然使用DRC，ORC和CFM检查等多种方法来识别这些热点，但是对这些设计热点的在线监视仍然是一个挑战。现有的热点检查方法（包括API和EBI）分别由于系统限制和吞吐量限制而不适用于大规模检查。 NanoPoint检查是BBP检查的最新进展，它使设计热点的在线检查能够以很高的吞吐量进行。在本文中，提出了一种使用NanoPoint BBP检查对设计热点进行在线检查的方法。

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