机译:通过RIE干蚀刻和KOH湿蚀刻技术结合沿<1120>方向制造GaN基条纹结构,以恢复干蚀刻损伤
机译:基于Cl↓(2)的电感耦合等离子体中III族氮化物的低偏干蚀
机译:Cl_2基电感耦合等离子体中III氮化物的低偏干蚀
机译:III族氮化物的干燥和湿法蚀刻
机译:激光辅助干法刻蚀III氮化物宽带隙半导体材料。
机译:通过湿法蚀刻和临界点干燥实现的超窄金属纳米沟槽
机译:通过化学辅助离子束蚀刻对III族氮化物激光二极管的镜面进行干蚀刻和表征
机译:III-氮化物的湿化学蚀刻研究