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DCE application in oxide furnace

机译：DCE在氧化炉中的应用

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DCE(Trans-Dichloroethylene, Trans_LC, C2H2C L2,) has a widely used in semiconductor fab oxide furnace. It's a key factor which can affect silicon oxide growth speed and SiO2 layer quality. As the size and the line width of the integrated circuit reducing, more and more DCE oxidation process are introduced. DCE can remove metal ion in furnace and fix metal ion in chip device and improve silicon oxide quality. In this paper, we have studied DEC's characteristic and introduced DEC's application in oxide furnace.
机译：DCE（反式二氯乙烯，反式LC，C2H2C L2）已广泛用于半导体厂氧化炉。这是影响氧化硅生长速度和SiO2层质量的关键因素。随着集成电路尺寸和线宽的减小，引入了越来越多的DCE氧化工艺。 DCE可以去除熔炉中的金属离子，并将其固定在芯片设备中，从而提高氧化硅质量。在本文中，我们研究了DEC的特性，并介绍了DEC在氧化炉中的应用。

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