New magnetically enhanced plasma source opens doors for an array of flexible Web applications

机译：新的磁力增强的等离子体源为灵活的Web应用阵列打开门

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It is often accepted that a racetrack shaped magnetic field is required to contain the Hall currents in a magnetically enhanced plasma source. Examples of this are planar magnetron and closed drift or gridless ion sources. A new configuration of a modified Penning Cell challenges this belief and demonstrates that electrons can be confined in a simple dipole magnetic field. Where magnetron sputtering dramatically improved the sputtering process, this new technique has equivalent promise for applications such as PECVD, etching and plasma cleaning. Due to the method's low temperature nature, web applications in particular are benefited. In this paper, the novel, patents pending confinement technique is presented. One source implementing the method, termed the Plasma Grinder, is examined with test data, results and applications information. In conclusion, two other source configurations implementing the new technique, suited for web applications, are briefly discussed.

机译：通常接受跑道形磁场需要在磁性增强的等离子体源中包含霍尔电流。这是平面磁控管和闭合漂移或无条件离子源。改进的捏合细胞的新配置挑战这种信念并证明电子可以限制在简单的偶极磁场中。在磁控管溅射显着改善溅射过程的情况下，这种新技术对PECVD，蚀刻和等离子体清洁等应用具有等同的承诺。由于该方法的低温性质，特别是Web应用程序受益。本文介绍了新颖的申请监禁技术的专利。使用测试数据，结果和应用信息检查实现该方法的一个实施方法称为等离子体研磨机。总之，简要讨论实现适合Web应用程序的新技术的另外两个源配置。

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来源
《International Vacuum Web Coating Conference》|2001年||共11页
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作者
John Madocks;
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中图分类 TH145-53;
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