双放电腔微波-ECR等离子体源增强磁控溅射沉积技术

徐军; 邓新绿; 张家良; 陆文棋; 马腾才

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双放电腔微波-ECR等离子体源增强磁控溅射沉积技术

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因其设备简单、沉积速率高等特点,磁控溅射沉积技术被广泛地用于各种薄膜制备中.但用反应磁控溅射制备化合物薄膜如氧化物、氮化物膜时,为了得到化学配比的膜层,薄膜生长表面的反应激活基团、离子等的密度必须足够大.为此对原有的微波-ECR等离子体源进行了改造.研究了双放电腔微波-ECR等离子体源增强磁控溅射的放电特性,并用该方法制备了氮化碳膜.结果表明:该方法是一种有效的制备化合物薄膜的技术;用该方法制备的氮化碳膜,化学成分接近化学配比.

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来源
《大连理工大学学报》 |2001年第3期|275-278|共4页
作者
徐军; 邓新绿; 张家良; 陆文棋; 马腾才;
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作者单位

大连理工大学;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜的生长、结构和外延;各类型放电;
关键词
磁控溅射; 放电特性; 氮化碳膜/等离子体源;

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