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【24h】

窒化炭素膜の低摩擦発現に及ぼす窒素ガス中酸素濃度の影響

机译：氮气氧浓度对碳氮化膜低摩擦表达的影响

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アモルファス窒化炭素（CN_x）膜は，窒素ガスに代表される不活性ガス環境において，窒化ケイ素（Si_3N_4）やCN_x 膜を相手材に0.01 以下の超低摩擦係数及び優れた耐摩耗性を同時に発現可能であるが，雰囲気中酸素濃度及び相対湿度の増加によりその優れた特性が失われることが報告されており，応用に向けた大きな障壁となっている．これに対し近年，CN_x 膜を加熱することで，構造変化を起こした炭素ベースの層の形成及び雰囲気中水分子由来の水素基及び水酸化基の吸着による低凝着力化が起こり，大気環境でも0.01 オーダの低摩擦係数が発現することが示されており，雰囲気中の水分子が低摩擦発現に寄与することを示すとともに，酸素が存在する環境であっても低摩擦が発現可能であることが示唆されている．そこで本研究では，酸素濃度を制御した室温窒素ガス環境におけるCN_x 膜の摩擦挙動を明らかにすると同時に，雰囲気中酸素がCN_x 膜を用いた低摩擦発現に与える役割を明らかにする．
机译：非晶碳氮化物（CN_x）膜可以同时表达由氮气表示的惰性气体环境中的氮化硅（Si_3N_4）和CN_X薄膜的超低低摩擦系数。但是，据报道，其优异的特性由于大气中的氧浓度和相对湿度的增加而导致丢失，并且适用于大屏障。另一方面，近年来，通过加热CN_X膜，产生由衍生自水分子的氢基团的结构变化和低聚集力而形成的碳基层，即使在大气环境中，已经表明表达了0.01的低摩擦系数，表明大气中的水分子表明它们有助于低摩擦表达，并且即使在存在氧气的环境中，也可以表达低摩擦性建议。因此，在本研究中，阐明了氧气浓度的室温氮气环境中CN_X膜的摩擦行为，同时，使用氧气在大气中的作用应用于低摩擦表达一个cn_x薄膜。

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