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【24h】

電子ビームリソグラフィによるロールモールド上への微細ラインアンドスペースパターンとドットパターンの描画特性

机译:通过电子束光刻绘制细线空间图案的绘制特性及卷模辊模具

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摘要

高スループットのナノスケール製造技術は、次世代デバイスの低コスト製造に必要とされている。そこで、UV硬化性樹脂を用いたナノパターンを複製可能なUVナノインプリントリソグラフィ(UV-NIL)がある。また、ロールモールドを使用するロールトウロールUV-NIL(RTR-UV-NIL)はナノパターンを高速で連続的に転写することができる。本研究室ではRTR-UV-NILによって18 m/minの速度での転写に成功している[1]。
机译:下一代设备的低成本制造需要高通量纳米级制造技术。因此,存在使用UV可固化树脂复制纳米透舱器的UV纳米压印光刻(UV-NIL)。而且,使用辊模的滚动辊UV-NIL(RTR-UV-NIL)可以高速连续转移。在该实验室中,RTR-UV-NIL以18米/分钟的速度成功转录[1]。

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