部分回転楕円X線ミラーのためのナノ精度三次元形状計測装置の開発第2報曲率ミラーの計測と評価

机译：用于部分旋转椭圆X射线镜的纳米精密三维形状测量装置的研制。第二次报告。曲率镜测量与评价

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2000年代に入り，第三世代放射光施設で得られる高輝度かつ高コヒーレンスなX線を利用し，元素分析や構造解析などの放射光実験が行われている.放射光X線の性能を最大限に利用するために，集光を行うための各種光学素子が用いられている.特に全反射ミラーは，長いワーキングディスタンス，高い集光効率といった優れた特性を持つ優れた光学素子である.X線ミラーは，可視光干渉計による形状計測法(Relative Angle Determined Stitching InterferometryI，Microstitching Interferometry)と，原子レベルの表面加工技術であるElastic Emission Machining (EEM)により，ナノメートル精度の非球面形状創製が実現されている.タンジェンシャル方向にナノメートル精度の楕円形状を作り込hだX線ミラーを2枚組み合わせてKirkpatrick-Baez配置とすることでKBミラー光学系を構築し，数十nmの二次元集光を実現している.

机译：在2000年代，使用在第三代辐射设施中获得的高亮度和高相干X射线，并进行辐射实验，例如元素分析和结构分析。辐射X射线的最大性能以使用有限，各种使用用于冷凝的光学元件。特别是整个反射镜是优异的光学元件，具有优异的特性，例如长工作距离和高浓度效率.x线镜通过弹性发射加工（EEM）实现纳米精度的非球面形状，可见光干涉仪的形状测量方法，以及作为原子水平表面处理技术的弹性发射加工（EEM）。它已经通过在切向方向上的两个X射线镜中组合两个X射线镜，构建KB镜像光学器件，结合Kirkpatrick-Baez布置，并实现了几十个光线。

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来源
《精密工学会大会学術講演会》|2018年|1(CD-ROM)|共2页
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作者
中森紘基; 岡田浩巳; 山内和人; 津村尚史;
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中图分类 TG5-53;
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