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首页> 外文会议>International Conference on X-Ray Microscopy >Nanofabrication of Optical Elements for SXR and EUV Applications: Ion Beam Lithography as a New Approach
【24h】

Nanofabrication of Optical Elements for SXR and EUV Applications: Ion Beam Lithography as a New Approach

机译：用于SXR和EUV应用的光学元件的纳米制剂：离子束光刻作为一种新方法

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Diffractive optical elements are important components for applications in soft x‐ray and extreme ultraviolet radiation. At present, the standard fabrication method for such optics is based on electron beam lithography followed by nanostructuring. This requires a series of complex processes including exposure, reactive ion‐etching, and electro‐plating. We report on experiments showing the single‐step fabrication of such elements using ion beam lithography. Both transmission and reflection gratings were fabricated and successfully implemented as spectrometers at laboratory soft x‐ray sources. Additionally, first steps toward zone plate fabrication are described.
机译：衍射光学元件是软X射线和极端紫外线辐射中的应用的重要组成部分。目前，这种光学器件的标准制造方法基于电子束光刻，然后是纳米结构。这需要一系列复杂的过程，包括曝光，反应离子蚀刻和电镀。我们报告了使用离子光束光刻的单步制造的实验。在实验室软X射线源的光谱仪中制造并成功地制造透射和反射光栅。另外，描述了朝向区域板制造的第一步骤。

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